Создан первый в России фотолитограф с разрешением 350 нанометров
31.03.2025
Компания — резидент особой экономической зоны (ОЭЗ) «Технополис Москва» создала первый в России фотолитограф с разрешением 350 нанометров.
«Микрон», Зеленоградский нанотехнологический центр и белорусский ОАО «Планар» разработали фотолитограф.
"Отечественная установка существенно отличается от зарубежных аналогов. Впервые в качестве излучения использована не ртутная лампа, а твердотельный лазер — мощный и энергоэффективный, с высокой долговечностью и более узким спектром.
На отечественный фотолитограф уже есть заказчик. Технологические процессы адаптируют к особенностям производства конечного потребителя.
В настоящее время ведется разработка фотолитографа с разрешением 130 нанометров. Завершить его планируется в 2026 году", - сообщил мэр Москвы Сергей Собянин.