Эволюция методов очистки поверхностей в наукоемких предприятиях
14.03.2022
Какие подходы и технологии использовались на производстве раньше для очистки поверхностей материалов? И как эти технологии эволюционировали?
Очистка поверхностей использовалась на предприятиях с самого начала индустриальной эпохи и продолжается по сей день.
Очистка поверхностей необходима на самых разных производственных этапах:
- Очистка заготовок будущих изделий для придания им определенных физических свойств. Например, кремниевые пластины нуждаются в тщательной очистке до того, как будут пригодны для производства микросхем;
- Очистка конечных изделий. Например, готовые оптические линзы нужно тщательно очистить от разного рода частиц и загрязнений, чтобы линзы смогли в полной мере выполнять возложенные на них функции;
- Очистка тары и упаковки для изделия. Данная задача актуальна как для производства продовольственной продукции, так и для производства изделий иного назначения. Если, например, упаковка для продуктов питания не будет в должной мере очищенной и продезинфицированной, это приведет в преждевременной порче продукции.
Технологии быстро совершенствуются. В последние десятилетия все активнее на производствах используют электрохимическую, лазерную и ультразвуковую очистку, которые требуют определенной технологической оснащенности самого предприятия и подготовки персонала.
Однако и у данных методов очистки есть свой собственный перечень недостатков и слабых сторон. Специалисты отрасли считают, что на сегодняшний день одним из наиболее эффективных способов очистки поверхностей на производстве можно считать озонирование.
Озонирование представляет собой воздействие на поверхность материала озон-кислородной смесью, которая не только прекрасно справляется с загрязнениями, но и уничтожает все известные на данный момент вирусы и бактерии.
Озон — идеальный природный окислитель, который удаляет более 99% загрязнений с поверхностей материалов. Озонирование обладает огромным количеством преимуществ перед традиционными способами очистки и позволяет достигать высокой чистоты поверхности. При очистке озон не нужен нагрев или применение токсичных реагентов, а сам подход максимально деликатный и не разрушает очищаемую поверхность.
Примечательно, что отечественные специалисты добились заметных успехов в получении озона высокой концентрации, необходимого для промышленной очистки. Так, российский проект Солвэй (резидент технопарка "Сколково") занимается разработкой уже запатентованной установки для получения высококонцентрированного озона с минимальными затратами ресурсов.
Озонирование необходимо многим предприятиям, работающим в областях микроэлектроники и оптики, солнечной энергетики и ТЭК, водоподготовки и дезинфекции, машиностроения и отбеливания. Поэтому эксперты Солвэй уверены, что сам метод очистки с применением озона займет уверенные позиции в инструментарии российских предприятий.