Топ-3 метода очистки поверхностей для электроники и не только
Очистка поверхностей - важнейших производственный этап на предприятиях самой разной направленности.
Очистка поверхностей применяется не только для подготовки продукции к упаковке и реализации, но и на начальных этапах, например, при производстве микропроцессоров и микросхем. Мы собрали наиболее эффективные из существующих способов очистки поверхностей.
3 место. Механическая чистка. В зависимости от типа производства используют разные подходы механической чистки поверхностей: вручную или автоматизированным способом. Такая читка сопряжена с высоким процентом брака, низкой эффективностью, высокими временными и финансовыми затратами.
2 место. Ультразвуковая чистка. Метод ультразвуковой чистки применяется, например, в производстве полупроводников. Будущие платы предварительно вымачиваются в специальном растворе. Далее следует воздействие ультразвуком, в результате которого образуются кавитационные пузырьки, которые и осуществляют чистку. Проблема такого подхода заключается в частой эрозии самих поверхностей, что может стать причиной высокого процента брака.
1 место. Чистка озоном. Озон - естественный природный окислитель, который эффективно справляется с чисткой поверхностей в самых разных сферах (от оптики до производства полупроводников). Очистка высококонцентрированным озоном не требует нагрева, использования токсичных реагентов. При этом такой метод очистки быстрее и качественнее аналогов.
В России наиболее инновационной компанией, разрабатывающей оборудование для получения озона высокой концентрации, который в дальнейшем используется для очистки поверхностей, является Солвэй (резидент Сколково).
Ввиду постоянно растущего спроса на эффективные методы очистки поверхностей, оборудование, подобное тому, что выпускается проектом Солвэй, в ближайшее время будет стремительно набирать популярность.