Революционный метод производства пластин для выпуска микросхем
«Выращивание кристаллов оксида галлия — одно из условий, необходимых для производства большинства электронных компонентных баз. Зарядки для электромобилей, солнечные батареи, чипы и микросхемы, платы, транзисторы и другие товары, для создания которых нужны полупроводники, подойдут для размещения пластин. Использование оксида галлия сегодня осложнено из-за необходимого для его создания тигля из иридия — металла редкого и дорогостоящего, что многократно увеличивает стоимость конечного продукта. Разработка исключает использование иридия и позволит в три — семь раз снизить производственную стоимость, а также снимет на мировом рынке ограничения по доступности и требуемому количеству материала», — рассказал исполняющий обязанности руководителя Департамента инвестиционной и промышленной политики Владислав Овчинский.
Отсутствие этих ограничений позволит ускорить темпы внедрения зеленых технологий и нарастить производство наиболее современной микроэлектронной продукции. Сегодня на рынке наблюдается дефицит полупроводников четвертого поколения, а данная разработка способна полностью его устранить.
Компания находится на финальной стадии подготовки к производству монокристаллических пластин оксида галлия. Области применения разработки широкие — от военной промышленности и силовой электроники до возобновляемой энергии и фотоники. Сейчас цена одной 100-миллиметровой пластины японского производства составляет примерно 6,4 тысячи долларов, в то время как прогнозируемая стоимость отечественного изделия не превысит трех тысяч долларов.
Специалисты уже провели необходимые научно-исследовательские и опытно-конструкторские работы. Для полноценного вывода товара на мировой рынок необходимо 1,5 года. Уникальное технологическое оборудование, а также невозможность прямого повторения технологических режимов на этапе выращивания кристалла дает компании временное и технологическое конкурентное преимущество на ближайшие пять — восемь лет.